SRT-300蒸发镀膜仪

系统采用外接前级真空泵和机内涡轮分子泵组，极限真空达到6E-7torr。

标准模块化配置，便于系统随意搭配。

石英玻璃腔室简洁美观。

三个蒸发源可连续或同时沉积金属和合金薄膜。

台式结构新颖大方，非常适合科研实验和短时间内沉积金属薄膜。

EBD-500型电子束+电阻舟热蒸发镀膜机

• 涡轮分子（低温泵）+真空获得系统
• φ500mmD形电抛光不锈钢腔体
•  
• 8位水冷坩埚的电子束源（75cc）
• 独立2位电阻蒸发源用于金属薄膜沉积
• 带 XY 扫描控制器的高压电源（3kW 至 15 kW）
• 配备INFICON膜厚沉积控制的精确厚度控制系统
• 配备全量程真空计和压控系统
• 配备两路MFC系统用于反应薄膜沉积
• 使用发散离子束辅助沉积系统
• 最大可沉积φ250mm 样品膜层
• 配备PLC+PC全自动沉积控制系统

系统特点

IEBD-1000型离子束辅助的电子束蒸发镀膜机

• 涡轮分子（低温泵）+真空获得系统
• φ1000mmD形电抛光不锈钢腔体
•  
• 24位水冷坩埚的电子束源（75cc）
•  
• 带 XY 扫描控制器的高压电源（3kW 至 15 kW）
• 配备INFICON膜厚沉积控制的精确厚度控制系统
• 配备全量程真空计和压控系统
• 配备3路MFC气体控制系统用于反应薄膜沉积
• 使用发散离子束辅助沉积系统
• 最大可沉积φ500mm 样品膜层
• 配备PLC+PC全自动沉积控制系统